hmds真空烘箱
产品用途:该产品主要用于半导体行业,hmds预处理系统通过对烘箱hmds预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层hmds,降低了hmds处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
一、产品规格:
型号:bd/hmds-6090 内形尺寸:450×450×450
型号:bd/hmds-6210 内形尺寸:560×640×600
二、 技术参数:
1、控温范围:rt+10~250℃
2、温度分辨率:0.1℃
3、温度波动度:±1℃
4、达到真空度:小于133pa
5、真空度:100pa~100000pa
6、定时范围:1~9999min
7、工作室材料:316l
8、样品架:2块、3块
9、真空泵:4l/s
10、电源电压:220v/50hz、380v/50hz三相五线制
11、总功率:3000w、4500w
三、hmds真空烘箱产品特点:
1、外壳采用冷轧钢板制造,表面静电喷塑。内胆、样品机、连接管路均采用优质不锈钢316l材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。
3、hmds气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保hmds气体无外漏顾虑。
四、hmds预处理系统操作流程:
1、首先确定烘箱工作温度;
2、预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充入氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分;
3、再次开始抽真空,充入hmds气体,在到达设定时间后,停止充入hmds药液,进入保持阶段,使硅片充分与hmds反应;
4、当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。
五、控制系统:
1、7.0英寸维纶彩色触摸屏,三菱plc控制器;
2、富士微电脑双数显温度pid控制器,控温精确可靠;
六、保护系统:
1、漏电保护;
2、超温保护;
3、缺液保护;
七、设备使用条件:
1、环境温度:5℃~+28℃(24小时内平均温度≤28℃)
2、环境湿度:≤85%r.h
3、操作环境需要室内通风良好,机器放置前后左右各80公分不可放置东西;
八、hmds真空烘箱服务承诺:
保修十八个月,免费送货上门,在对该设备安装调试结束后,在用户现场对相关技术人员免费做相应的操作培训,人数不限。
北京中科博达仪器科技有限公司
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